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离子束辅助沉积设备

  • 2024-03-29
  • 中国
  • 离子束辅助沉积是指在气相沉积镀膜的同时,采用低能离子束进行轰击,从而形成单质或化合物薄膜的技术,还可通过反射式高能电子衍射仪(RHEED)进行在线结构分析。该方法制备的薄膜具有高精度、高纯度、重复性和一致性好的优点,广泛应用于...... 离子束辅助沉积是指在气相沉积镀膜的同时,采用低能离子束进行轰击,从而形成单质或化合物薄膜的技术,还可通过反射式高能电子衍射仪(RHEED)进行在线结构分析。该方法制备的薄膜具有高精度、高纯度、重复性和一致性好的优点,广泛应用于光学膜、传感器、光伏、半导体等领域。
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离子束辅助沉积是指在气相沉积镀膜的同时,采用低能离子束进行轰击,从而形成单质或化合物薄膜的技术,还可通过反射式高能电子衍射仪(RHEED)进行在线结构分析。该方法制备的薄膜具有高精度、高纯度、重复性和一致性好的优点,广泛应用于...... 离子束辅助沉积是指在气相沉积镀膜的同时,采用低能离子束进行轰击,从而形成单质或化合物薄膜的技术,还可通过反射式高能电子衍射仪(RHEED)进行在线结构分析。该方法制备的薄膜具有高精度、高纯度、重复性和一致性好的优点,广泛应用于光学膜、传感器、光伏、半导体等领域。
上海超导科技股份有限公司
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